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晶體出現率分析儀

更新時間:2024-01-17

訪問量:905

廠商性質:生產廠家

設備型號:ZMP960

簡要描述:
ZMP9 60 晶體出現率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺,將顆粒圖像信息采集下來并傳輸到計算機中,用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法,將目標顆粒與背景分離,分析出各種測量參數,并通過顯示器和打印機輸出。
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ZMP9 60 晶體出現率分析儀工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺,將顆粒圖像信息采集下來并傳輸到計算機中,用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法,將目標顆粒與背景分離,分析出各種測量參數,并通過顯示器和打印機輸出。 

     晶體出現率分析儀具有超大測量范圍及高分辨率,同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色 的新型顆粒分析儀器。 

 產品介紹:ZMP960晶體出現率分析儀,可以直接對透明貼劑中析出的晶體進行掃描,按照規定掃描范圍進行掃描一定的面積,將其中的晶體識別出來并做數量統計。軟件可以內置公式得出晶體出現率。

 

 

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